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  • 主营产品: 半导体设备 太阳能光伏设备 晶圆电镀设备 清洗蚀刻设备
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晶诚 化学湿法清洗机 JCDZ-WS07型 QDR清洗 刻蚀清洗
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晶诚 化学湿法清洗机 JCDZ-WS07型 QDR清洗 刻蚀清洗

设备名称化学湿台用途湿法清洗腐蚀操作方式手动/半自动/自动适用领域半导体材料、集成电路、MEMS、LED芯片、功率器件等适用工艺酸洗、碱洗、有机清洗、刻蚀、超声(兆声清洗)、QDR清洗、显影、去胶、电镀、旋干清洗方式槽式清洗单片清洗可清洗尺寸2吋--12吋

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  • 发货地:山东 青岛
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  • 供货总量: 100台
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    山东 青岛 城阳区 流亭街道空港工业园瑞仁路6号
产品特性:自动加工定制:是品牌:晶诚
型号:JCDZ-WS06用途:湿法清洗别名:湿法清洗台
规格:台操作方式:半自动/自动可清洗尺寸:2-12吋晶圆
适用领域:半导体材料安全防护:有

晶诚 化学湿法清洗机 JCDZ-WS07型 QDR清洗 刻蚀清洗详细介绍





































设备名称

化学湿台

用途

湿法 清洗 腐蚀

操作方式

手动/半自动/自动

适用领域

半导体材料、集成电路、MEMSLED芯片、功率器件等

适用工艺

酸洗、碱洗、有机清洗、刻蚀、超声(兆声清洗)、QDR清洗、显影、去胶、电镀、旋干

清洗方式

槽式清洗 单片清洗

可清洗尺寸

2吋--12吋

药液供给

手动/自动

主体材质

PP   PVC不锈钢

槽体材质

石英、PVDF、PTFE、NPP、   不锈钢等

温控精度

±1℃

安全防护

自动安全门、漏液报警、漏电保护、液位保护、急停、声光报警系统

模块化设计

 

满足客户多种工艺及产能的定制化要求

可编程菜单,方便用户操作,直观

实时流程显示,可控性强

多级密码,方便管理,***

自动保存生产数据

可实现远程控制

可实现功能

药液管理系统(自动供液、自动补液、循环过滤)、在线加热、甩干、电导率检测、恒温系统、百级FFU、自动灭火等


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